반도체 / Equipment_Etch

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Companies (Dataview)

TABLE company, market, ticker, spotlight_tech, updated
FROM "Research_DB/개별종목"
WHERE sector = this.sector AND value_chain = this.value_chain AND status = "current"
SORT updated DESC
LIMIT 200

핵심 플레이어 (티커 + 한줄 설명)

티커	기업명	한줄 설명
LRCX	Lam Research	식각 장비 글로벌 1위, 3D NAND 고종횡비 식각 독점적 강점
AMAT	Applied Materials	식각 2위, CVD·PVD와 시너지 통합 공급
8035	Tokyo Electron (TEL)	식각 3위, 코팅·현상 연계로 아시아 팹 강세
AMEC	중국 AMEC (688012)	중국 내 식각 국산화 선두, 성숙 노드 집중

경쟁 구도 (선도자 vs 도전자)

선도자: Lam Research가 3D NAND 고종횡비 식각(HAR Etch) 시장 점유율 50%+로 사실상 독점적 지위
도전자: AMAT이 이온빔 식각·ALE(원자층 식각) 기술로 GAA 노드 침투 강화, TEL이 일본·한국 현지 서비스 네트워크로 추격
중국 AMEC이 제재 이후 28nm 이하 국산 식각 장비 개발에 집중, 내수 시장 빠르게 장악
ALE(Atomic Layer Etch) 기술이 GAA 구조 필수화되며 Lam·AMAT 기술 투자 경쟁 심화

모멘텀 / 촉매 (2026 Q1)

GAA 구조 전환으로 Dry Etch 고도화 — 나노시트 형성을 위한 선택적 식각 정밀도 요건 급증
EUV 노광 후 식각 정밀도 요구 증가 — 멀티패터닝 대체로 EUV 1회 노광 후 단일 식각 정확도 중요
3D NAND 200층+ 고층화 — 깊은 홀(HAR) 식각 스텝 증가로 장비 발주 확대
원자층 식각(ALE) 채택 가속 — 원자 1층 단위 정밀 제거 기술이 2nm 이하 노드 필수화
미국·일본 현지 팹 신규 발주 — TSMC 애리조나 N2 팹, 인텔 18A 라인 식각 장비 대규모 수주

리스크

리스크 항목	내용	영향도
중국 수출규제 지속	Lam·AMAT 대중 첨단 식각 장비 수출 금지 확대, 중국 매출 비중 약 30%	상
파운드리 투자 축소	TSMC·삼성 Capex 감축 시 식각 장비 발주 급감	상
AMEC 성장	중국 AMEC의 기술 수준 향상으로 중저가 시장 점유율 잠식	중
공정 복잡도 증가에 따른 개발비	GAA·ALE 신기술 대응 R&D 비용 부담	하

(자동 업데이터가 채웁니다)